Минский НИИ радиоматериалов Национальной академии наук Беларуси предлагает потребителям фотошаблоны для фотолитографического оборудования на основе производственного соглашения.

Фотошаблоны применяются для оптической или контактной фотолитографии при производстве микросхем, схем функциональной электроники, тонкоплёночных, микрополосковых и СВЧ плат.

Минский НИИ радиоматериалов Национальной академии наук Беларуси изготавливает прецизионные фотошаблоны на подложках из стекла К8 и кварца, предназначенные для проекционной фотолитографии при производстве интегральных схем, тонкоплёночных, микрополосковых и СВЧ плат, полупроводниковых приборов различного назначения и др.

При изготовлении прецизионных фотошаблонов используются фоторезисты, область максимальной чувствительности которых находится в области ближнего УФ-излучения. Рисунок формируется сфокусированным лазерным излучением с длиной волны 355 нм.

Прецизионные фотошаблоны изготавливаются на современном оборудовании (генераторе изображений лазерном многоканальном ЭМ-5189-02), обладают высокой точностью неометрических размеров элементов рисунка и шага между фрагментами, стабильностью рисунка и его размеров с течением времени, высокой контрастностью изображения.

Фотошаблоны характеризуются:
* высокой разрешающей способностью;
* большим числом идентичных изображений;
* большой оптической плотностью непрозрачных участков;
* высоким качеством поверхности рисунка;
* однородностью рисунка;
* стойкостью к истиранию;
* плоскостностью рабочей стороны.

Типы изготавливаемых фотошаблонов:
* с железноокисным маскирующим покрытием;
* с хромовым маскирующим покрытием.

Технические характеристики:

минимальный размер элемента	0,6 мкм
толщина	от 2,2 до 6,4 мм
габаритные размеры заготовок	127(5˝),152(6˝) и 178мм (7˝)
неровность края элемента	не более 0,3 мкм
скругление угла элемента	не более 0,5 мкм
погрешность стыковки полос	не более ±40 нм
погрешность совмещения	не более ±70 нм

Области применения: оптика, оптоэлектроника, лазерная техника и микроэлектроника.

Минский НИИ радиоматериалов предлагает партнерам изготовление фотошаблонов в рамках производственного соглашения.

Каталог инновационных разработок организаций НАН Беларуси для замещения критического импорта (2022), стр.10-11.

Импортозамещение фотошаблонов производства АО «Зеленоградский нанотехнологический центр», НПК «Феррит-Квазар», АО «НПК «Авангард», НПП «Радар ММС» (Россия), Xiamen Powerway Advanced Material Co., Ltd (Китай), Photronics, Inc. (США), Compugraphics International Ltd. (Великобритания).

Специализация института включает следующие основные направления:
* разработка и производство элементной базы и функциональных узлов СВЧ-техники (твердотельные СВЧ монолитно-интегральные схемы - малошумящие усилители и усилители мощности, защитные устройства, переключатели, аттенюаторы, преобразователи частоты; СВЧ-модули и др.);
* разработка и производство оптоэлектронных компонентов и модулей на их основе (фотодетекторы, светоизлучающие диоды, полупроводниковые лазеры, приемные и передающие оптические модули);
* производство материалов для полупроводникового производства - подложки арсенида галлия стандарта «epi-ready»;
* разработка сенсорной техники, модулей и систем (датчики угла наклона, давления, ускорения, электронный компас и др.);
* разработка и изготовление медицинской техники.

Научно-производственная база института включает в себя специальное технологическое и научно-исследовательское оборудование, предназначенное для разработки и выполнения полного цикла технологических операций изготовления СВЧ, оптоэлектронных компонентов, датчиков физических величин на основе микроэлектромеханических систем, оборудование для изготовления продукции медицинского назначения - датчиков «Глюкосен» и др. В частности оборудование позволяет выполнять операции резки полупроводниковых слитков соединений А3В5 (GaAs, InP, GaN и др.), шлифовки и полировки пластин, эпитаксиального наращивания, операции термодиффузии и имплантации легирующих примесей, операции корпусирования микросхем, контроля их параметров и т.д.

Институт имеет лицензионное программное обеспечение для электродинамических расчетов, собственную библиотеку стандартных элементов, методики контроля и испытаний СВЧ компонентов С, S, L, X, K диапазонов длин волн, оборудование электронной литографии с разрешением 100 нм, обеспечивающее современный уровень проектных норм.

В рамках специализации ведется разработка технологий, элементной базы и на ее основе приборов для различных радиоэлектронных систем: систем радиолокации, волоконно-оптических линий связи, лазерных дальномеров, систем горизонтирования и ориентации объектов, систем управления, наведения и навигации, и т.д.

Потребители, заинтересованные в приобретении фотошаблонов на основе производственного соглашения.