Резка слитка монокристаллического кремния на пластины и лазерное генерирование примесей в полупроводниковых структурах
СТРАНА ПРОИСХОЖДЕНИЯ
Резка слитка монокристаллического кремния на пластины и лазерное генерирование примесей в полупроводниковых структурахИДЕНТИФИКАТОР
TO2738ОПУБЛИКОВАНО
2020-09-18ПОСЛЕДНЕЕ ОБНОВЛЕНИЕ
2020-11-26СРОК ДЕЙСТВИЯ
Связанный профиль на другом языке
Ответственный (контактное лицо)
Картузова Алеся
+375 29 150 2787
market@phti.by
+375 29 150 2787
market@phti.by
Описание
Предназначена для изготовления кремниевых пластин для интегральных микросхем; удаление быстродиффундирующих примесей из активных областей интегральных микросхем.
Используется в микроэлектронике.
Разработаны:
Режущий инструмент и рекомендации с учетом кристаллографических факторов для кремниевых пластин ориентации (001) и (111) по:
– режимам резки слитка монокристаллического кремния на пластины;
– режимам лазерного геттерирования быстродиффундирующих примесей.
Используется в микроэлектронике.
Разработаны:
Режущий инструмент и рекомендации с учетом кристаллографических факторов для кремниевых пластин ориентации (001) и (111) по:
– режимам резки слитка монокристаллического кремния на пластины;
– режимам лазерного геттерирования быстродиффундирующих примесей.
Преимущества и инновации
– методы резки позволяют получить более равномерное распределение и значительное снижение глубины нарушенных слоев на поверхности отрезаемых пластин, улучшить
геометрические параметры — уменьшить прогиб и устранить микроволнистость поверхности;
– методы геттерирования примесей позволяют формировать геттерирующие области большой емкости, исключающие выход дислокаций на рабочую поверхность пластин, повысить выход годных полупроводниковых структур.
Микроинструмент
геометрические параметры — уменьшить прогиб и устранить микроволнистость поверхности;
– методы геттерирования примесей позволяют формировать геттерирующие области большой емкости, исключающие выход дислокаций на рабочую поверхность пластин, повысить выход годных полупроводниковых структур.
Микроинструмент
Стадия разработки
Проведены эксплуатационные испытания (TRL8)
Источник финансирования
Бюджетные средства
Собственные средства
Собственные средства
Состояние прав на ОИС
Секретное ноу-хау
Секторальная группа (Классификатор)
Аэронавтика, космос и технологии двойного назначения
Материалы
Нано- и микротехнологии
Материалы
Нано- и микротехнологии
Информация оборганизации
Опыт международного сотрудничества
Есть
Языки общения
Английский
Русский
Русский
Информация о сотрудничестве
Тип сотрудничества
Коммерческое соглашение с технической поддержкой
Тип и размер искомого партнера
251-500
МСП <= 10
МСП 11-50
МСП 51-250
МСП <= 10
МСП 11-50
МСП 51-250
Приложения
Views: 2686
Statistics since 26.11.2020 17:07:18
Statistics since 26.11.2020 17:07:18