Раздел
|
ЗАЩИТНЫЕ ПОКРЫТИЯ
|
Отрасль промышленности
|
Полупроводниковые материалы
|
Программа
|
Защита поверхностей
|
Область применения
|
Микроэлектроника.
|
Описание
|
Технология модификации поверхности полупроводниковых структур с использованием импульсного магнитного поля предназначена для улучшения электрофизических и эксплуатационных характеристик полупроводниковых приборов. Технология реализована на установке магнитоимпульсной обработки МИУ-30. • Энергия импульса до 30 кДж, • длительности импульса — 50— 00 мкс; • производительность — 360 шт/ч; • потребляемая мощность — 3 кВт/ч; • переходное сопротивление контактов — 2-10в-2 Ом/конт; • плотность электрически активных дефектов в диэлектрике 5на10в4 м2.
|
Научно-технический уровень
|
Превышает показатели лучших мировых аналогов по производительности, степени модификации поверхности (уменьшение плотности дефектов и снижение переходного сопротивления контактов), позволяет сократить технологический цикл изготовления полупроводниковых приборов. Новизна разработки подтверждается патентами:
|
Степень готовности
|
Разработанная технология реализована.
|
Ожидаемый результат
|
Технологический процесс позволяет улучшить электрофизические и эксплуатационные характеристики полупроводниковых приборов в 2 раза снижает дефектность полупроводниковых структур, уменьшает в 1,5 раза переходное сопротивление контактов в тонкопленочных структурах, снижает удельное сопротивление тонких металлизированных покрытий. Сокращение технологического цикла на 2 операции позволило снизить энергетические и трудовые затраты.
|
Форма реализации
|
Срок окупаемости проекта: 3 года. Разработчик готов предать технологическую документацию на договорной основе и оказать помощь в освоении технологии.
|